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超高真空集成原子层沉积系统

超高真空集成原子层沉积系统

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产品名称: 超高真空集成原子层沉积系统

英文名称: ALD

产品编号: UHV ALD

产品价格: 0

产品产地: 中国

品牌商标: SuperALD

更新时间: 2023-09-04T14:01:04

使用范围: null

北京正通远恒科技有限公司
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设备规格

衬底尺寸:标准尺寸:100mm Dia (4 inch)(可定制)

工艺温度:温度范围:RT~400°C 精度:土1°C(可定制)
前驱体路数:支持6路前驱体气路(可定制),包含固、液态前驱体源瓶

加热系统:可加热温度范围:RT~150℃

反应物路数:支持2路反应物气路(可定制)
载气:标准:N2, MFC 流量控制(可定制)
高真空系统:高性能分子泵,支持对高真空的真空度需求

控制系统:19寸显示器,支持触控工业级嵌入式工控机,高可靠性,支持扩展
操作系统:Win7 操作系统,工业级可编程逻辑控制器,支持现场总线与实时多任务处理操作

传片系统:手动磁力杆传片,配置专用传片腔体、门阀以及真空系统(可定制)

工艺

可沉积薄膜种类和应用场景包括:

• High-K介电材料 (Al2O3, H2O, ZrO2, PrA1Q, Ta2O5, La2O3);
• 金屬互联结构 (Cu, WN, TaN, Ru, In);
• 催化材料 (Pt, Ir, Co, TiO2):
• 生物医学涂层 (TiN, ZrN, TiAIN, AlTIN);
•金厲(Ru, Pd, Ir Pt, Rh, Co, Cu, Fe, Ni;
• 压电层 (ZnO, AIN, ZnS);
• 透明电学导体 (ZnO:Al, ITO);
• 光子晶体(ZnO, TiO2, Ta3N5);等

机架

•框架采用进口铝材搭建,重量轻、承载能力强,散热性好

•外壳采用碳钢烤漆及圆角处理,轻便美观,拆卸方便,符合人体工学

•显示屏360度自由旋转,可调视距、视角、自由悬停

控制系统

• 控制系统采用 PLC+工控机+19 寸触摸屏方式实现,系统通过高速以太网进行通讯。

• 采用 PLC 对设备进行实时控制,同时实现基于Windows7 操作系统的人机界面互动,支持历史数据、工艺配方、报警及日志的储存和导入导出的功能

• 设备支持“一键沉积”功能,点击运行按键即可自动完成真空抽取、升温、材料沉积、降温等一系列步骤。实现单一或多层材料的沉积;提供独立的手动操作页面,支持手动开关阀门的操作,人机交互同时支持鼠标、键盘和触摸的输入方式

• 设备运行软件提供用户权限管理功能,可根据用户级别设定使用权限,防止误操作,保证设备和人身安全

• 设备运行软件提供逻辑互锁功能,防止用户误操作,并弹出信息对话框进行提示

• 设备运行软件集成安全及参数配置、IO互锁列表信息功能