NDR-4000（A）全自动DRIE深反应离子刻蚀：全自动上下载片，带低温晶圆片冷却和偏压样品台的深硅刻蚀系统，带8“ ICP源。系统配套500L/S抽速的涡轮分子泵，可以使得工艺压力达到几mTorr的水平。在低温刻蚀的技术下，系统可以达到硅片的高深宽比刻蚀。
产品货号：NDR-4000（A） 产地：美国 价格：询价 点击数：5750 咨询价格
NLD-4000（A）全自动原子层沉积系统：ALD原子层沉积可以满足精确膜厚控制以及高深宽比结构的保形沉积，这方面ALD原子层沉积远超过其它沉积技术。由于前驱体流量的随意性不会带来影响，所以在ALD原子层沉积中有序、自限制的表面反应将会带来非统计的沉积。
产品货号：NLD-4000（A） 产地：美国 价格：询价 点击数：6122 咨询价格
NPC-4000（A）全自动等离子去胶机（刻蚀机）：NANO-MASTER 等离子刻蚀和等离子灰化机是专门设计用来满足晶圆批处理或单晶片处理，具有广泛应用，从晶圆的光刻胶剥离到表面改性都涉及到。该系列的设备采用PC控制，可以配套不同的等离子源，加热或不加热基片夹具,具有
产品货号：NPC-4000（A） 产地：美国 价格：询价 点击数：6056 咨询价格
NRE-3500（A）全自动反应离子刻蚀机：自动上下栽片，PC控制的RIE反应离子刻蚀系统，淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品，不锈钢柜，13“顶盖式圆柱形铝腔,便于晶圆片装载.2“观察.该系统可以支持Z大到12“的晶圆片。腔体为超净设计，真空泵可以达到10-6 Torr 或
产品货号：NRE-3500（A） 产地：美国 价格：询价 点击数：5781 咨询价格
NPE-4000（A）全自动PECVD等离子体化学气相沉积系统: NM的PECVD能够沉积高质量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可达12" 的基片.淋浴头电极或中空阴极射频等离子源，样品台通过RF或脉冲DC产生偏压。可支持加热和冷却.使用250l/sec涡轮分子泵及3.5 cfm
产品货号：NPE-4000（A） 产地：美国 价格：询价 点击数：5942 咨询价格