上海知信单频超声波清洗机
上海知信单频超声波清洗机ZX-3200DE    用途脱气系列数码超声波清洗机主要运用于电子、机械、光学、珠宝、样品前处理、破碎、乳化、分散、助溶、提取萃取、消泡脱气、纳米制备等，同时适合高精密零件的高洁净度清洗工况应用。
PE-50实验室等离子表面处理机
等离子表面处理机是一种非破坏性的表面处理设备，它是利用能量转换技术，在一定真空负压的状态下，以电能将气体转化为活性极高的气体等离子体，它能轻柔冲刷固体样品表面，引起分子结构的改变，从而达到对样品表面有机污染物进行超清洗，在极短时间内有机污染物就被外接
等离子清洗机
等离子清洗机VP-R3真空腔体石英玻璃材质，频率13.56MHz，能对材料起到清洁、刻蚀、活化、改性的作用，满功率运行30分钟，腔体温度不高于32℃，不损伤样品，适用于微流控芯片PDMS键合、ITO导电玻璃、石墨烯、纤维、单晶硅片、PET、二氧化硅等几乎所有材料的PLASMA处理。
XF-120超声波处理器
标称频率：20KHZ标称功率：120W整机尺寸：150×150×75mm＋180mm（超声探头长度）配变幅杆：6mm或8mm使用电源：220V/50HZ工作方式：全程数字化设置程序控制，连续工作
舒美牌KQ-700台式超声波清洗器
超声发生源与清洗槽为一体化。主要适用于商业、轻工、大专院校、科研单位的小批量清洗、脱气、消泡、乳化、混匀、置换、提取、粉料粉碎及细胞粉碎。
反应离子刻蚀/沉积等离子处理系统(反应离子刻蚀（RIE）及等离子体增强化学气相沉积 （PEVCD）系统、 薄膜沉积、刻蚀、表面处理、材料改性、金属刻蚀、粘合促进
BM8-II是一款定义反应离子刻蚀（RIE）及等离子体增强化学气相沉积 （PEVCD）等离子处理新概念的等离子处理系统。BM8-II反应离子刻蚀（RIE）/沉积（PEVCD）等离子处理系统基于模块化设计制造，采用一款通用的真空处理舱及机柜。