石墨烯Graphene化学气相沉积系统-实验室常用设备-仪器设备-生物在线

产品名称：石墨烯Graphene化学气相沉积系统

英文名称： Graphene CVD

产品编号： G1-CVD

产品价格： 0

产品产地：中国

品牌商标： SciCreate

更新时间： null

使用范围： null

北京科锐精仪科技有限公司

进入展台

　石墨烯（Graphene）自2004年发现以来，在短短数年间已经成为凝聚态物理、化学、生命科学、材料科学等领域研究中倍受瞩目的“明星材料”。几年内，在国际SCI杂志上，发表了上万篇关于石墨烯的文章，这种研究热度将维持很长时间。

　　化学气相沉积（CVD）是目前制备石墨烯的最有效、也是最具研究价值的方法。但搭建一套完整而高效的石墨烯化学气相沉积系统并非易事。即使在系统搭建完成后，要真正制备出单层石墨烯，还需要长时间的参数优化。往往使得科研人员错过了最佳的研究时机。

　　G－CVD石墨烯化学气相沉积系统由北京科锐精仪公司与国内顶尖石墨烯研究机构合作开发，提供完整的石墨烯生长系统。可制备高质量大面积石墨烯（最大厘米量级）

　　系统内置了在不同衬底上制备石墨烯所需要的参数，用户只需简单的选择衬底类型，可以轻松的制备出自己的石墨烯。为研究人员节省大量时间。

　　同时，G－CVD还可用于纳米金刚石、碳纳米管，及其它材料的CVD生长制备。广泛应用于生命科学各个领域。

主要参数：

样品腔

　　温度范围：室温~1050度

　　功率：2.5 kW

　　末端口：不锈钢法兰接口，外置水冷却

　　进样方式：手动

气路及真空

　　气体：

　　Ar 纯度99.99%以上，40L，配惰性气体减压阀，流量0~1000 sccm；

　　H₂ 纯度99.999%，40L，配氢气减压阀，流量0~200 sccm；

　　CH₄ 纯度99.999%，40L，配减压阀，流量0~10 sccm (更大量程可选)；

¹³CH₄ 纯度99.999%，10L，配专用减压阀，流量0~10 sccm (限同位素CVD系统)；

机械泵：

　　抽速400 L/min，极限真空5x10^-3 Torr，油雾过滤

　　液氮冷阱：用于获得更高真空（可选配件）

　　过压泄气阀：大于760Torr，自动开启

　　真空调节阀：调节样品腔内的气压，手动（自动控制式可选）

控制模块：

　　温度、气流及真空采用计算机控制，其中部分功能也可以采用手动控制。计算机实时控制和显示所有与生长有关的实验参数，自动保存实验参数，给实验带来极大的方便，并提高实验的精确性。