系统说明

RUIDU 科研型纳米压印光刻系统 RD-NIL100

RUIDU 科研型纳米压印光刻系统 RD-NIL100 RD-NIL100，是一款桌面型纳米压印光刻系统。主要应用于微米或纳米结构的压印成型。

系统特点

•● 桌面型，4 / 6 / 8英寸可选

●• 热压印 ＜230℃，误差 ±2℃

•● 真空环境作业，＜1mbar

●• 可压印分辨率＜50nm图案

技术参数

可实现图案转移分辨率 分辨率<50nm，可同时实现UV紫外固化和热压印两种模式

压印精度控制及均匀性 在紫外固化模式下，可实现5:1深宽比，优异的压印高度均匀性

热压印 230℃；100°C/min升温速度；可以根据压印材料，通过软件实现不同温度控制

UV光源 配置i-line 365nm光源，光源能量值可达400mW/cm2

压力控制 真空腔≤100Pa；气压腔0.0-0.3bar，采用进口干泵机

压印平台 平整度TTV<5μm，确保长期的高精度、高稳定性

检测模块 配置气压及温度检测模块,与软件配套，可实现特定环境的控制

通讯接口 USB2.0标准计算机与仪器通讯接口

压印室尺寸 直径~105mm，高度~12mm（4寸）

应用软件 支持自定义 ：可根据客户压印材料不同，控制不同气温，UV紫外照射时间及量

操作控制：提供简单易操作的控制流程，同时支持管理员模式更改个别需求参数

实时监控：监控压印腔体内的温度、压力数据，实时反映在监控软件上

典型应用

•● DOE（人脸识别衍射元器件）

●• Diffuesr（扩散元器件）

•● AR波导片

●• 微透镜阵列

•● 微流控芯片

●• 微针

▲ 175nm宽度光栅

T. 021-51816409

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